23 августа 2012 года «Роснано» и MAPPER Lithography, голландская компания-разработчик систем безмасочной литографии, объявили о начале инвестиций в производство инновационного литографического оборудования. Об этом говорится в пресс-релизе ОАО «Роснано».
Общая сумма сделки составляет €80 млн, доля «Роснано» — €40 млн. Такую же сумму вкладывают акционеры MAPPER, — инвестиционные компании ADP Industries, Parcom Capital (Parc-IT) и Hoving & Partners, технологические компании Technolution и DEMCON, ряд частных инвесторов и семейных инвестиционных фондов, а также Агентство Нидерландов при министерстве экономики, сельского хозяйства и инноваций. Существенная часть инвестиций «Роснано» будет направлена на создание в России производства ключевого компонента литографических систем MAPPER.
Инвестиции позволят компании MAPPER выпустить несколько поколений оборудования Matrix. Модель Matrix 1.1, намеченная к выпуску в 2012 году, использует более 1 300 электронных лучей и обрабатывает одну подложку в час. Модель Matrix 10.1, использующая 13 260 электронных лучей, обладает производительностью 10 подложек в час. Кластерная система Matrix 10.10, состоящая из десяти установок Matrix 10.1, способна обрабатывать 100 подложек в час, что соответствует требованиям массового производства микросхем. В рамках инвестиционного проекта производственные мощности MAPPER будут расширены до 20 литографических машин в год.
В России планируется создать предприятие по выпуску электронной оптики на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) — ключевого компонента оборудования MAPPER. Производство требует использования уникальных технологий в области МЭМС. Мощность российского предприятия составит до 20 систем электронной оптики в год, каждая из которых способна управлять 13 260 параллельными электронными лучами. Проект ориентирован на сотрудничество с ведущими российскими профильными исследовательскими институтами.
Открытое акционерное общество «Роснано» создано в марте 2011 года путем реорганизации государственной корпорации «Российская корпорация нанотехнологий». ОАО «Роснано» содействует реализации государственной политики по развитию наноиндустрии, выступая соинвестором в нанотехнологических проектах со значительным экономическим или социальным потенциалом. Основные направления: опто- и наноэлектроника, машиностроение и металлообработка, солнечная энергетика, медицина и биотехнологии, энергосберегающие решения и наноструктурированные материалы. 100% акций ОАО «Роснано» находится в собственности государства. Председателем правления ОАО «Роснано» назначен Анатолий Чубайс.
Задачи государственной корпорации «Российская корпорация нанотехнологий» по созданию нанотехнологической инфраструктуры и реализации образовательных программ выполняются Фондом инфраструктурных и образовательных программ, также созданным в результате реорганизации госкорпорации.
Компания MAPPER Lithography, основанная в Делфтском техническом университете и расположенная в городе Делфт (Нидерланды), разрабатывает принципиально новое литографическое инфраструктурное оборудование для полупроводниковой промышленности. Инновационная технология электронных лучей, используемая в оборудовании MAPPER, позволит с меньшими затратами производить полупроводниковую микроэлектронику следующего поколения. Она позволяет обойтись без употребления традиционно используемых дорогостоящих литографических масок и сочетает ранее практически недостижимую разрешающую способность (22 нм и выше) с высокой производительностью, позволяя обрабатывать до 100 кремниевых подложек в час. В MAPPER работает более 200 человек.
Для продвижения безмасочной литографии на базе платформы MAPPER развернута международная производственно-исследовательская программа IMAGINE, которую координирует ведущий мировой институт по прикладным исследованиям в микроэлектронике CEA-Leti. Основными участниками являются крупные производители микроэлектроники — TSMC (Тайвань) и STMicroelectronics (Франция). В середине 2009 года в чистых комнатах CEA-Leti был установлен промышленный прототип установки MAPPER.
В начале 2012 года в рамках программы IMAGINE компания MAPPER достигла размерности элементов 22 нм, что соответствует следующим технологическим стандартам в микроэлектронике — 14 нм и 10 нм. В этом году CEA-Leti и MAPPER объявили о продлении программы IMAGINE на три года. В течение этого времени в CEA-Leti будет установлено опытное оборудование Matrix, на котором ведущие мировые производители микроэлектроники смогут опробовать безмасочную технологию в реальной производственной обстановке.